国内又一家企业实现KrF光刻胶批量化生产- -

12月7日，上海新阳半导体材料股份有限公司在互动平台回答投资者提问时表示：KrF光刻胶已批量化生产销售。此前9月份，上海新阳公司表示ArF光刻胶尚处于验证阶段。另外，上海新阳还表示，合肥新阳项目尚未投产，部分设备已进场。

上海新阳产能

上海新阳主营晶圆超纯化学材料产品，也就是光刻胶。历经二十余年发展，已经拥有完整自主可控知识产权的电子电镀和电子清洗两大核心技术，电子光刻及电子研磨核心技术正在形成。

公司聚焦于集成电路关键工艺材料业务，已建设上海厂区产能1.9万吨/年，合肥第二生产基地一期1.7万吨/年的产品产能，突破公司现有产能瓶颈，为公司进一步加大国产替代速度奠定基础。

目前，上海新阳正在开发集成电路制造用高端光刻胶产品，包括逻辑和模拟芯片制造用的I线光刻胶、KrF光刻胶、ArF干法光刻胶，存储芯片制造用的KrF厚膜光刻胶，底部抗反射膜（BARC）等配套材料。

市场需求最大的两种光刻胶

如果说光刻胶是半导体行业的皇冠，那ArF光刻胶就是皇冠上的明珠。

受制于国内光刻胶技术壁垒高、产业集中度高，目前我国高端光刻胶的国产化率仍然保持较低水平。半导体光刻胶中的ArF和KrF光刻胶，国产化率仅1％。基本涵盖了当前主流芯片领域，包括大部分数字芯片和几乎所有的模拟芯片。

其中，ArF湿法光刻胶主要应用于先进制程中的多重曝光过程，需求比ArF干法更多。并且，随着技术节点向前推进，ArF湿法光刻胶的用量增长很快。从整体上来说，ArF与KrF基本覆盖主流芯片制程和应用需求，且在单芯片制作过程中用量相比更多，因而成为了光刻胶市场上需求最大的两类。

国内光刻胶产业正处于国产化机遇期，国内光刻胶企业——晶瑞电材、彤程集团、南大光电、上海新阳等都在加快光刻胶项目的研发建设，力求早日量产突破“卡脖子”的困境，而跨界布局光刻胶的企业也日渐增多，哪些本土光刻胶企业将最终“脱颖而出”，仍需时间的考验。